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什么是ICP光谱仪​的去溶干扰?
点击次数:0 发布时间:2020-02-01
 

  什么是ICP光谱仪的去溶干扰?我们今天就来一起简单的了解一下。

  1. 去溶干扰就是去除溶剂的干扰,主要是扣除背景.

  2. 可以提高灵敏度,降低检出限.

  3. 去溶过程主要出现于分析液体样品的原子吸收和ICP发射光谱,它是指将雾化后的液(湿)气溶胶中溶剂挥发变为干气溶胶的过程。对于ICP来说,因为加热条件比较好,只要使气溶胶在分析通道的停留时间足够长,即使不用去溶装置也可使分析物完全挥发,而基本上没有什么去溶损失,所以ICP的去溶干扰并不十分明显,更不是很重要。


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